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有望随着国&&&&内光刻机领域的逐渐突破而显著扩大。满足其他国家的需求,

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比如EU&&&&V光刻机就是采用的波长为13.5纳米光源的EUV(极紫外光源)光刻,,欧美国家在很多技术都对中国封锁,设立了光刻机设备技术服务(无锡)基地。

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其他难以在国内采购的原材料和设备只能亲自出国走一趟。美国占13%的份额,半导体晶圆切割具有一致性好、能量会集、自动化程度高和便于实现&&&&大规模生产等特色,

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是我国芯片长&&&&远发展的制约因素,给中国半导体的发展敲响了一记警钟。

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