光刻胶的精密程度越大生产出来排布的芯片也就排布越先进,用光刻机在掩膜版基板(制作微细电子排布光掩膜图形的感光空白板)上子排光电子排布刻出相应的图电子形,亦电子是阻碍中国光刻胶发展的核心因子排素的电之电子排布一。
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