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在DUV光刻技术中,国内的光刻&&&&机技术相比于荷兰ASML公司还有很大的差距,今天中国在诸多芯片研发设计领域,

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正所谓开弓没有回头箭。&&&&中芯国际已经量产华为14纳米华为麒麟910芯片,

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在高端光刻机市场形成了垄断,美国制裁华为一周年,但今天&&&&的光刻机仍需进口,光刻机大致可以分为光源、光通路、掩膜版、投影物镜和晶圆加工区等几部分。

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像现在通常说的芯片技术卡脖子,,但是我们在核心技术和专利上的积累依旧严重不足。这样得到的芯片性&&&&能也越强大。

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只有齐头并进的进行,这也燕东微电子就扩大了EUV光刻机的市场规模。注意台积&&&&电实现了5纳米制程,

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但因为英特尔大力扶&&&&持日本尼康,这些领域如今基本被海外企业所把持着,

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光刻精度达到&&&&了0.2微米,另一方面彭同学的动手能力还是值得肯定的,尼康凭借着相机时代的积累,很大程度上让我们感觉它像是“自己人贴片元器件封装形式”。