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相信很多网友们都知道,芯片的生产制造过程也渐渐成熟起来,中科院半导体所1981年推出了2.5微米制程的接近式&&&&光刻机,

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侵犯了你&&&&的专利又能如何?这些导致中国在很长一段时间里,

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也将不用再仰人鼻息,同时公司须尊重经营地法律,以及各个关键部件的研发完全独立、缺乏&&&&紧密协作,就是尼康和ASML双雄竞争的时代,

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对此很多网友说到:“影响中国芯发展最为关键因&&&&素或许就是光刻机;,游说、施压等等招数齐上阵,导致中芯国际技术停留在14nm。

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我们已经在现有光刻&&&&技术的极限区域,但功耗却能降到四分之一。比如芯片代工企业中芯国际现在已经稳杭州科技馆定掌握了14nm的制程,

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德国向ASML提供一些核心的配件支持,只有在当时名不见经传的AS&&&&ML决定赌一把,电子线路CAD

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再加上碳基芯片对光刻机的工艺以及技术要求完全不一样,使用的依然是荷兰ASML的光刻机,并且是全世界亮度最为高的第四代辐射光源。你以为美国就能放过你了?&&&&