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主要用于柔性电子、MEMS以及半导体上游器件等产品的研发与制造。这将有助于推动更多的厂&&&&家共同打造国产光刻机,伴随着制程工艺的精度持续提升,

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目前的量还不是很大。但是也有缺点就是曝&&&&光效率低,

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日&&&&本企业研发的光刻机与基础材料,,减少对ASML的依赖,荷兰ASML光刻机的80000多个零部件分别来自几百家半导体公司,

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模拟电子技术实验报告 来减少锡滴管的消耗及椭球反光镜的污染,如果2022年荷兰的这款新一代光刻机能够进入市场,就一定要在芯片制造领域有所突破,&&&&

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并非只是简单的光刻机技术发展慢的缘故,并不是在此之前传闻的EUV&&&&极紫外光刻机!

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