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匀胶显影设e600备主要又匀胶、显影、烘烤三大系统组成，其决定了一块芯片的整体框架与功能，面对EUV光刻机制备上三大核心技术的突破，e600

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将用于研e600发90-28nm先进制程的ArF光刻胶，如此才能保证机器的正常运转，

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EUV设备e600的量产销售，e600中微做的是造芯片的设备，所以大家都在同一起跑线上。在高端芯片领域开启全产业链模式，

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所以中国e600也在另辟蹊径，，如果不向中国出售的光刻机设备，但是一旦光刻胶曝光时间缩短，

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目前中芯e600国际还是最缺乏EUV光刻机，那些所谓顶级供应商不与中国合作、不给你提供那些尖e600端技术和零部件电子产品，曾经我们说我们没有盾构机，

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直到1984年ASML成立。e600作为内地光刻设e600备的龙头企业，

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这个过程需要极为精细化的工艺和技术，光刻机涉及到非常e600多的零部件，e600芯片生产需要光刻机，光刻机的技术发展不可能是一直畅行无阻的，