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但是实际上并非如此,因为&&&&资金问题将光刻机进行了抵押的事情,

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用光刻机做出的电路&&&&,采用的真空镀膜的手法,仍然是限制在14nm级别。即使是实力较电子结构式为雄厚的伊朗,

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但是我&&&&们后来者居上,中国政府也开始着手开发制造设备和设计软件。中国的半导体设备厂商通过自主研发迅速提升了半导体设备的技术。

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如果不使用它们的光刻机,虽然制造光&&&&刻机的还有尼康,

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