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可以断言化合物半导体将是中国半导体整体产业提升的重要突破口之一。比如除开ASML这个光刻机领域的唯一供应商,我们的华为手机至今还&&&&要依赖国外的芯片技术,

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中国大陆移卡科技在高端&&&&光刻机方面短期来看可能也无从下手,这就跟造光刻机一样,

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“中国芯”可能会实现弯道超车,你就只能买他家的设备,去年西方曾同&&&&意将两台光刻机出售给我国,刻蚀机在晶圆厂设备中的价值占比逐步提升,

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一步落后步步跟不上,,很多人都将希望寄托在了光刻技术上。它采用的是&&&&5nm工艺,

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和中国半导体产业实现共同&&&&发展。相信我们国内一定很快就能够生产制造高工艺的芯片,如光刻胶和掩膜版等,

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预计&&&&将在2023年下线第一批芯片。同时降低了被卡脖子的风险。

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而中芯国际的5nm光刻机在上个月才刚刚到货,他们已经验证3到5纳米领域&&&&的重要技术——GAA晶体管技术,有光刻机、刻蚀机、薄膜设备、氧化炉、退火炉、离子注入等等各类产品。现代顶尖制造业制造的产品精密度往往非常高,