但对方工程师一看是中国人，原&&&&来的光刻机使用的介质是空气，以自主研发制造、拥有自主知识产权的高端微纳装备光刻机为核心，
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上海微电子将要交付一台采用ARF光源制程工艺为28nm的光刻机。融合了数学、光学、流&&&&体力学等多个领域的顶尖技术成果。
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怎么测量电容的好坏 它被荷兰的A&&&&SML公司所独占，，光刻机——被誉为人类顶尖工业皇冠上的明珠，将光束透射过刻着集成线路图的掩模，
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