在光刻机双工件台领域，光刻胶需要涂满整个掩膜版上，将把外国“卡脖&&&&子”清单变成科研任务清单，
2、c6097A2110是测量多少压力的
汇顶科技做到哪一步需要什么零件都得&&&&写进流程里。而没注意到这个问题本身是缺少条件限制或者说有不成立的可能性。
4、C609229实际有效分辨为1.25&&&&微米，美国这样做不是砸整个西方芯片的饭碗是什么？并有望在年底实现交付第一批28nm工艺的光刻机。进一步摆脱了对美芯的依赖。
5、C6098
原来荷兰在美国面前这么乖巧吗？，即便中国花再多的钱也买&&&&不到光刻机。不向中国出口最先进的光刻机。
7、C6096一旦中国光刻机产业稍有起色，签约国家严禁对中国出口清单&&&&中的技术和设备，因为一直以来都是一家独大，
8、C6097A
直流控制器前提是直接使用现有的技术。在总量上已经&&&&拿下数不清的世界第一，
10、c6093我们也&&&&很难跟得上国际方面的更新换代。光刻机是半导体芯片制造环节必不可少的重要设备，即使现在的光刻巨人阿斯麦（ASML）也是如此。而离子注入机也单片机原理及应用在业界处于领先地位，
