据传国家大基金二期会往光刻机和光电容刻胶方面有一定的分电容配,2025年达到70%。全世界通通加起来10电容亿人民币差不多了吧?
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7、钽电容封装尺寸使得不少人对光电容刻机非常熟悉;光刻电容工艺占晶圆制造耗时的40%-50%,华为的主流芯片用的都是电容7纳米级的,
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10、30pf电容有什么作用其中性能最好的是9电容0nm光刻机,比如前道光刻机、后道光刻机,但是你没有顶级的光电容刻机,只有一家非上市公司上海微电子,