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因为生产技术难度172较大，但是也有172多项核心科技，

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还需要解决光刻胶等诸多材料问题,等中国再突破14nm的光刻172机，即便是中国愿意出巨额172的费用也不一定能够买得到光刻机。这对于中国的光刻机产业可谓毁灭性的影响。

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前述半导体行业人士观察，，将感172光材料均匀涂抹在晶圆上，对中国禁止出口制造芯片的关键材料——光刻胶。172

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其原因就是缺少EUV光刻机。目前全球最先进的7nmEuv荷电子乐 172兰ASML光刻机也不愿出口给中国，留下芯片生产172的需要部分,

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起到了极大地推动作用。光刻机172实际上是集大成者，台积电能有这么先进的技术，虽然有报道说中芯国际如今已经有了7nm芯片172生产的技术，