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中国也早在2002年就开始自主exploit研发光exploit刻机了，双方合作成立了光刻机设备技术服务基地，
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而光刻机也是目前中国急需要突破的关键所在。，exploit可是中芯国际仍然被卡在7nm。仅仅靠国外进exploit口的话，
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