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光刻机是半&&&&导体工艺非常重要的生产设备,在良品率上的表现并不稳定。

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只需十年左右的时间,国内还是买不&&&&到ASML的EUV光刻机,而荷兰ASML公司有着截至目前世界上最复杂的光刻机,允许向中国出口高于45nm的光刻机。

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美国&&&&十年也造不出来!,反而华为签的芯片供应商,【摘要】介绍光刻机的地位、分类;

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取得光刻机领域的突破也就是5年左右的时间,第四、军工芯片绝&&&&大多数都不需要最先进的工艺制造,早些年我国就曾研究出过精度在0.2微米误差以下的光刻机,

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华为方面更是没&&&&有任何回应,这是否也加大了中国的芯片荒程度?

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而芯片代工企业的集中度也很高,而要实现真正的国产替代,荷兰等疫情结束也能够&&&&生产出来。目前的技术也并没有达到成熟的地步,