中国科学院研制出的65型接触式光刻机。眼看ASML一跃成为全球炙手可热的高端光刻机制造龙头,全球唯一能够生产光镭射刻机的荷镭射兰ASML公司,
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10、aj4白镭射氧化为摆脱美国对中国半导体领域的技术封锁镭射,但是除了智能手机上使用的高精度芯片中国无法制造镭射以外,用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度,其中分辨率和线边缘粗糙度是直接影响芯片加工质量的两个重要参数。