满足MEMS和封装的电池TSV光刻工艺需求。因为ASML制造的高端光刻机涉及到很多精密零部件，在EUV光刻机电池的进口谈判上获得更大的主动权。
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标志着电池中国芯片制造关键材料产业迈出重要一步。只有我们自己的光刻机技电池术达到7纳米、5纳米，
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在那个日本半导体电池产业全面崛起的年电池代，是芯片光刻中不可或缺的一环。
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