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虽然还有很大&&&&的进步空间,而且现在14nm以上似乎没有什么问题,

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光刻机的技术门槛非常高,可这恰好就反应出来了一个问题,最先进的极紫外光E&&&&UV光刻机所需的零部件更是超过10万个。光刻机发明对于现在的中国技术来说,

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