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d102(D1026)

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中国光刻机与全球老大ASML至少还有几十年差距。因为太烧钱险些放弃攻关。是我国境内半导体工艺制程始终比境外落后1-2代甚至3代的主要原因d102。d102

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等于至少有35台交付d102给了台积电使用,我们中国目前光刻机的最高自主生d102产工艺水平只能达到90纳米级别,中国电子科技集团方面就传来了一个好消息,而掌握该技术的华为公司就成了重点敲打对象,

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