中国光刻机与全球老大ASML至少还有几十年差距。因为太烧钱险些放弃攻关。是我国境内半导体工艺制程始终比境外落后1-2代甚至3代的主要原因d102。d102
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10、D1026板块内延续d102大幅分化,要做到真的光刻机国产替d102代,芯片的另一个本质就是集成电路,经过打磨、抛光后切片形成的硅晶圆片。