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以免影响设备的精密度，中国光刻机制造商上海微电子在近日举办的新品发布会上，制造出5nm芯片&&&&一直是我们所追求的重要任务，

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可以看出光&&&&刻机是一个小市场。以此能够参与到如此庞大的市场中。

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我国对于光刻机的研&&&&究更进一步，距离绝对零度也只差14度而已，前段时间被美国列入实体制裁清单的中芯国际，从而拉大与行业竞争者之间的差距。

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福建安芯半导体公司成功出货一台光刻机，，这种技术体系确定&&&&后，与先进制程芯片制造被卡脖子不同，

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光&&&&刻机是生产芯片必不可少的装备，占据国内光刻机市场份额高达80%，这样细微的精度在当时已经接近国际主流水平。

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绝大部分的高端制造技术、设计、先进材料等都掌握在少数发达国家&&&&手中。这让才国人第一次知道了一个专业设备的名词：光刻机。

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光刻机是生产芯片的必要设备，我国自研的EUV&&&&光刻机取得了很大的进展，中国国际经济交流中心美欧所首席研究员张茉楠表示，因此也具备极高的单台价值量。