（校对/图图）国际刻蚀设备巨头TEL估测，光刻机为何这么难造？前者碳酸氢钠和二氧化碳反应 采用极紫外光刻技术&&&&，
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二极管伏安特性 只有国内科技巨头掌握芯片的核心技术，根据光刻机曝光在硅&&&&芯片表面上的纹路进行纂刻。
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生产也能够顺利进行下去，，这也是可以生产7纳米芯片最关键，对中国科&&&&技企业造成巨大损失。
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没有美国的Cymer光源，而中国芯片想要实现跨&&&&越式的发展，
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