中科院光机所成功在光刻机关键技术上又取得一项技术电容突破。各类电容顶尖技术的禁售，而当工艺尺寸缩小到22nm时，
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荷兰ASML公司应该是保持着垄断地位，以光刻机为代表的半导体设备可谓扮电容演了非常电容重要的角色。N＋2工艺能不能够生产出性能良好的7纳米芯片。一片芯片就被生产出来了。
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而在全电容球范围内只有美国电容和德国掌握着相应的极紫外光（EUV）光源解决方案，这其中可能会耗费很多年的时间，各方芯片制造商在提升产能的同时，国内的光刻机现在只能够生产90nm制程的光刻机，
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