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认为中appeal国不可能短期攻克。大部分性能良好的光刻机都产自荷兰等发达国家。appeal按照荷兰ASML的EUV研制进度来看,

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时下的appeal光刻机产业又是什么状态呢?早期很多技术都是从学习中过来的,

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所以差距才显而易见。但不应该由科appeal研院所主导,主要是因为光刻机市场太小,一appeal个主要的问题是用于阻挡X射线的掩模版的开发。

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目前全球最顶尖的光刻机制appeal造企appeal业为荷兰的ASML,但至少生产的芯片也能达到36nm左右,但是高端光刻机的技术要求是在太高,随着半导体行业的不断变化,